腔內(nèi)掃查超聲模體
簡(jiǎn)要描述:腔內(nèi)掃查超聲模體體模上面板開(kāi)有兩個(gè)直徑為 Φ3mm的探查孔,其位置分別位于面板的上半部分中心及下半部分中心。探查孔O1周圍布置有軸側(cè)向分辨力靶群,側(cè)向靶群,縱向靶群。探查孔O2周圍布置有盲區(qū)靶群、成像幾何畸變靶群、仿囊性病灶、仿腫瘤病灶、仿囊與仿結(jié)石病灶。探查孔O3位于體模左右兩側(cè)面板,用于回撤方向分辨力及回撤方向幾何位置精度測(cè)量。該通道為貫穿左右面板的通道,腔內(nèi)探頭可以從左右側(cè)面板插入進(jìn)行掃查
- 產(chǎn)品型號(hào):
- 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間:2024-08-29
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腔內(nèi)掃查超聲模體
產(chǎn)品名稱:腔內(nèi)掃查超聲模體,仿組織超聲模體
產(chǎn)品編號(hào):20240829-06
產(chǎn)品廠家:廊坊玉雙儀器設(shè)備有限公司,生產(chǎn)加工:腔內(nèi)掃查超聲模體,仿組織超聲模體
產(chǎn)品介紹:體模上面板開(kāi)有兩個(gè)直徑為 Φ3mm的探查孔,其位置分別位于面板的上半部分中心及下半部分中心。探查孔O1周圍布置有軸側(cè)向分辨力靶群,側(cè)向靶群,縱向靶群。探查孔O2周圍布置有盲區(qū)靶群、成像幾何畸變靶群、仿囊性病灶、仿腫瘤病灶、仿囊與仿結(jié)石病灶。探查孔O3位于體模左右兩側(cè)面板,用于回撤方向分辨力及回撤方向幾何位置精度測(cè)量。該通道為貫穿左右面板的通道,腔內(nèi)探頭可以從左右側(cè)面板插入進(jìn)行掃查。2)A:盲區(qū)靶群 盲區(qū)靶群布置在探查孔O2周圍,共8根靶線,每隔45°設(shè)置一個(gè),設(shè)置深度由中心探頭探查孔O2邊緣正上方1mm開(kāi)始,以1mm為步徑,分別為1、2、3、4、5、6、7、8mm。3)B1—B4:軸側(cè)向分辨力靶群 軸側(cè)向分辨力靶群布置在探查孔O1周圍,其側(cè)向分支分別距中心探查孔O1邊緣5,10,20,30mm的圓弧上,即B1和B2、B3、B4四組靶群,各靶線分布于圍繞探查孔中心半徑為6.5mm、11.5mm、21. 5mm、31.5mm的圓弧上。兩相鄰靶線中心側(cè)向間距(兩靶線之間的間距弦長(zhǎng))依次為3,2,1,0.5mm。 該靶群其軸向分支中兩相鄰靶線均在以中心探查孔圓心為圓心的半徑上,相鄰靶線靶線中心距探查孔中心半徑差值分別為0.5,1,2,3mm。以位于探查孔中心半徑為6.5mm即探查孔邊緣5mm的軸側(cè)向分辨力為例,軸側(cè)向分辨力靶群分布示意圖如圖A.3所示。此處軸測(cè)向分辨力靶群中靶線間隔均為靶線直線距離,側(cè)向分辨力靶群中靶線間隔為弦長(zhǎng)(非圓弧弧長(zhǎng))。4)C1─C3:側(cè)向靶群(用于考察側(cè)向(橫向)幾何位置精度) 側(cè)向靶群布置在探查孔O1周圍,分別位于距中心探查孔上半部邊緣5mm,10mm,30mm處,其中C2─C3靶群中靶線中心側(cè)向距離(兩靶線之間的直線距離)為10mm。 C1靶群中靶線中心側(cè)向距離(兩靶線之間的直線距離)為5mm。靶線分布于圍繞探查孔中心半徑為6.5mm、11.5mm、31.5mm的圓弧上。5mm 處的側(cè)向靶群由探查孔左側(cè)水平位置起呈半圓狀分布,共5個(gè)靶點(diǎn),10mm處的側(cè)向靶群C2由探查孔左側(cè)水平位置起呈半圓狀分布,共4個(gè)靶點(diǎn)。30mm處的側(cè)向靶群C3由探查孔左側(cè)水平位置起呈半圓狀分布,共10個(gè)靶點(diǎn)。5)D1─D2:縱向靶群 縱向靶群D1布置在探查孔O1周圍,位于含靶線6條,位于距中心探查孔O1左側(cè)邊緣5、10、20、30、40、50mm處。 縱向靶群D2布置在探查孔O1周圍,共含靶線4條,位于距中心探查孔O1正下方邊緣5、10、20、30mm處。6)J:圖像幾何畸變靶群 圖像幾何畸變靶群布置在探查
運(yùn)輸包裝:廊坊玉雙儀器設(shè)備有限公司,生產(chǎn)加工:腔內(nèi)掃查超聲模體,仿組織超聲模體
產(chǎn)品編號(hào):20240829-06
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